Hellma Materials 源自德國光學重鎮耶拿，承襲百年光學制造精髓與原肖特（Schott Lithotec）光刻級晶體技術，自 1922 年創立以來，專注于高精度光學材料與元件的研發、生產與加工。公司在德國耶拿自建晶體生長基地，自主培育超高純度合成氟化鈣晶體，從原材料提純、晶體生長到精密加工、質量檢測，實現全流程自主把控。

分類：

1. 標準光學級 CaF?

CaF?-UV：深度優化深紫外波段（130nm-350nm）透過率，無雜散光、無吸收峰，適配紫外光譜儀、光學檢測設備。

CaF?-IR：專注紅外波段（0.78μm-8μm）高透射性能，化學穩定性強，適配紅外傳感、熱成像系統。

CaF?-POL：超高表面精度與光學均勻性，低雙折射，適配精密成像、顯微鏡、天文光學系統。

2.高激光損傷閾值級 CaF?

CaF?-LDT：激光損傷閾值超 10J/cm2@193nm，抗高能量脈沖激光沖擊，適配高功率工業激光系統。

CaF?-EXCIMER：為準分子激光專項優化，適配 193nm、248nm 光刻激光，長期使用無性能衰減。

激光耐久分級（LD 系列）：LD-A（超高級）適配 7nm 及以下先進制程光刻；LD-B（高級）適配中高能量準分子激光；LD-C 適配常規激光傳輸；LD-D（標準）適配低能量光學場景。

3.高純度電子級 CaF?

CaF?-EP：金屬雜質含量低于 1ppm，超高純度，適配半導體工藝設備、真空檢測系統。

CaF?-VUV：突破真空紫外波段傳輸壁壘，適配 157nm 及以下深紫外科研與工業應用。